纸叠
虽然上面介绍的光刻模拟的研究、开发和制造应用给出了基于时间、成本和能力的建模的充分益处,但是模拟的潜在能力是其作为学习工具的能力。
尽管如上所述,模拟光刻在研究、开发和制造应用中的优势已经通过时间、成本和性能得到证明,但是模拟的潜力在于其作为学习工具的能力。
建模的正确应用允许用户高效和有效地学习。
正确使用模拟可以让用户更加得心应手。
这是真实的原因有很多。
有几个原因可以解释这一点。
首先,模拟的速度与
实验使反馈更加及时。
首先,与实验相比,模拟的反馈速度更及时。
因为学习是一个循环(一个想法,一个实验,一个测量,然后与最初的想法比较),更快的反馈允许更多的学习循环。
因为学习是一个循环(一个想法,一个实验,一次测量,和原来的比较),更快的反馈可以赢得更多的学习循环。
因为模拟非常便宜,所以有更少的限制和更多的机会去探索想法。
而且模拟成本低,限制少,尝试的机会多。
而且,正如研究应用程序向我们展示的那样,对“实验”有更少的物理限制
可以执行。
正如研究和应用的结果告诉我们的那样,对什么样的实验有较少的物理限制。
所有这些因素允许使用建模来获得对光刻的理解。
所有这些模拟技术的应用使我们对光刻有了更好的了解。
无论是学习基本概念还是探索微妙的细微差别,提高知识的价值都不会被夸大。
无论是学习基本的理论原理,还是探索材料的细微差异,提高知识的价值都不可高估。
在接下来的章节中,将更详细地探讨光刻模拟在制造中的应用。
在下面的部分中,将会发现更多关于模拟光刻在制造中的应用的重要细节。
2.光刻模拟在制造业中的应用
2.模拟光刻技术在制造业中的应用。
A.薄膜堆栈优化
A.薄膜堆栈优化
出于多种原因,薄膜叠层优化是光刻模拟在制造环境中最经常使用的方法。
出于以下原因,模拟光刻最常用于制造环境中的膜堆叠的优化。
首先,膜叠层在制造厂中频繁变化,除了底部抗反射涂层(BARC)和抗蚀剂,该膜叠层不受光刻控制
团体。
首先,在fab中,薄膜堆叠经常改变。与底部抗反射涂层和抗蚀剂不同,这种膜叠层不受光刻控制。
因此,光刻组必须通过调整光刻工艺来响应这些薄膜叠层的变化。
因此,平版印刷集群必须根据这些胶片堆叠的变化来调整平版印刷过程。
从光刻的观点来看,最重要的薄膜叠层特性是基底的反射率。
从光刻的观点来看,薄膜叠层最重要的部分是光敏基底的反射率。
不幸的是,当涂覆有抗蚀剂时,没有办法测量基板的反射率(基板在空气中的反射率对于该应用没有意义)。
不希望的是,如果光敏基底涂有一层抗腐蚀剂,那么测量光敏基底在空气中的反射率是没有意义的。)不可能测量光敏基底的反射率。
因此,所有BARC优化工作都需要使用模拟。
因此,所有的BARC优化工作都需要模拟技术的应用。
反过来,这种模拟需要精确测量BARC光学参数(厚度,n & amp;k)。
此外,这种模拟技术需要光学参数(厚度,n,& amp;k)精确测量。