浅谈英语术语

狗屎,这种质量的翻译也不羞于拿出来,让你看看英语学习者的翻译。以下是我自己的

B.流程开发工具

B.流程开发工具

光刻建模也被证明是一个非常有价值的工具

用于开发新的光刻工艺或设备。

光刻原理已经被证明是光刻模型的加工和装备的无价工具(建模这个词是关键,其他部分楼主自己想好怎么翻译,再选择一个更好的词。我就暂时用这个,然后打上问号,你想改就改,不想改就说型号其实不错)。

一些更常见的用途包括

一些更有用的用途包括

染料的优化

最佳染色

光致抗蚀剂的负载

加载光刻胶,(不知道这个数字怎么翻译,楼主自己可以)

衬底反射率的模拟,

模拟(模拟)光敏底层的反射率

适用性

适应性

以及顶部和底部抗反射涂层的优化

,

以及优化顶部和底部抗反射涂层材料。

以及带宽对摇摆曲线幅度的影响的模拟。

并模拟(模拟)曲线的振幅带宽。

此外,模拟已经用于帮助理解厚抗蚀剂在薄膜磁头制造中的应用

型号(?)在光刻胶材料中广泛使用,用于质量控制目的,以测试新的理论(或公式,我不知道你专业地使用哪个词)

并确定用于质量控制目的的光致抗蚀剂性能的适当测量[34]。

以及测量光致抗蚀剂材料特性。(最后一句移到前面)

Resist用户经常使用建模作为新resist评估的辅助手段。

电阻经常应用模型(?)作为新抗性评估的辅助。

在曝光工具侧,

在曝光工具方面,

建模已经成为优化步进机的数值孔径和部分相干性[35-37]以及理解密集线和孤立线之间的印刷偏差[38]不可或缺的一部分。

型号(?)已经成为优化数码光圈、台阶泛音布局、理解印刷线条疏密不可或缺的一部分。

光学邻近校正软件的使用需要关于如何执行校正的规则,

光学邻近校正软件的应用需要满足校正规则。自己看英语。

这通常是在光刻模拟的帮助下产生的[39]。

这种校正经常发生在帮助光刻的模拟中。

作为一种开发工具,光刻模拟由于其速度和成本效益而表现出色。

作为一种开发工具,普通打印模式的优势在于它的速度和输入输出。

工艺开发通常包括进行大量实验来确定最佳工艺条件,

工艺开发通常涉及连续不断的实验,以确定最合适的工艺条件。

解决可能出现的问题,

发现可能的问题

确定对变量的敏感性,

衡量变量的启发。

并将规格限制写在

过程的输入和输出。

以及编写处理过程中输入和输出的规范定义

这些活动往往既费时又费钱。

这些行为(那些测量这个和那个的实验)耗费了大量的时间和金钱。

建模提供了一种用模拟实验补充实验室实验的方法来加速这一过程

降低成本。

该模型为实验室模拟实验提供了补充,可以加快实验速度,降低实验费用。

考虑到在晶片制造设备中的单次实验运行可能需要几个小时到几天,

想象一下,单个用于实验目的的粘接密封工具就需要几个小时甚至几天的时间。

模拟的速度优势是相当大的。

需要考虑模拟的速度优势。

这允许比在工厂中实际(或甚至可能)更多的模拟。(什么是fab?出现在这里很俗!应该是lab不能在论文中出现不同意思的俚语吧?)

这使得实验室中更大数量的= = =模拟是允许的(甚至是可能的)(意味着一个是实验性的,更有可能是实用的)。