什么是PVD进程？

1.靶准备:选择合适的靶，通常是金属、合金或陶瓷。靶材的制备包括切割成合适的形状(如圆盘和矩形)并抛光以获得光滑的表面，并确保靶材的纯度和质量符合要求。

2.真空环境的建立:将待镀靶和基片置于真空室中，通过真空泵抽真空，将室内气压降低到所需的真空度。建立高真空环境是保证有效PVD过程的关键。

3.清洗和预处理:在开始沉积之前，通常需要对基底进行清洗和预处理，以去除表面污染物和氧化物，从而保证良好的附着力和膜层质量。预处理方法可以包括机械抛光、溶剂清洗、电子束或离子清洗等。

4.靶材蒸发或溅射:在真空室中，通过加热靶材或施加离子束轰击，释放出靶材表面的原子或离子。蒸发时，靶材表面原子受热蒸发；在溅射过程中，靶表面的原子或离子被离子束轰击或电弧放电剥离。

5.沉积成膜:蒸发或溅射的原子或离子以凝聚的方式沉积在基底表面，逐渐形成薄膜。在沉积过程中，应控制靶功率、沉积速率、沉积时间和沉积角度等参数，以控制薄膜的厚度、成分和结构。

6.后处理和测试:沉积后，可能需要一些后处理步骤，如退火、抛光或涂层密封，以提高薄膜性能。还可以对薄膜进行测试和评价，如厚度测量、表面形貌分析、化学成分分析和性能测试。